粉体行业在线展览
GMSD2000-304
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-304
46
0.1-100μm
研磨分散双腔体一体化细化原料药颗粒,严控药液不溶性微粒,全线机型工艺参数统一,注射剂小试配方可平稳放大无菌产线,保障每批次药液均匀稳定
一、产品概述
GMSD2000 卫生级管线式研磨分散一体机,严格遵照制药 GMP 无菌规范设计,专门用于混悬型注射剂的连续化湿法细化制备。设备集成锥面研磨腔体与多级高剪切分散单元,可一次性完成原料药固体颗粒破团、超细研磨、均质悬浮作业,有效解决药粉团聚结块、药液出现微粒杂质、颗粒粒径不均、长期静置沉降分层等问题。整机密闭无死角,全程管道连续进料出料,避免药液接触空气产生污染,保障注射剂微粒达标、药效稳定,是无菌混悬针剂工业化量产的核心预处理设备。
二、工作原理
药液连续进入主机腔体,首先进入精密研磨区,依靠定转子高速挤压、摩擦、撞击,破碎原料药硬团聚颗粒;物料随即自动进入多级剪切分散腔,在狭窄工作间隙内形成高强度湍流场,进一步剥离粉体软团聚,将固体药粒均匀分散在水相、油相溶媒中。物料一次过机即可完成粗碎、超细研磨、均质悬浮整套工序,无需反复循环加工,粒径分布窄,混悬液稳定性大幅提升,可有效降低注射堵针、不良反应风险,满足药典对注射液不溶性微粒的管控标准。

三、核心优势
采用前置研磨 + 后置高剪切双级串联一体化结构,先破除原料药硬团聚再做精细均质,一次过机严格控制药液颗粒细度;全系列机型统一转子线速度与腔体间隙,实验室小试工艺可零偏差线性放大至无菌生产线,彻底解决小试药液均匀、量产出现微粒超标、批次含量波动大的痛点。整机内腔镜面抛光(Ra≤0.8μm),无卫生死角,支持 CIP 在线清洗与 SIP 在位灭菌,换料无交叉污染;机械密封配置冷却温控结构,严控剪切热,防止药物高温降解,完全满足无菌制药洁净生产要求。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GMSD2000-325
GMSD2000-326
GMSD2000-258
GMSD2000-243
GMSD2000-257
GMSD2000-259
GMSD2000-260
GMSD2000-256
GLC2000-19