粉体行业在线展览
Helios 5 Laser PFIB TEM
面议
赛默飞世尔科技
Helios 5 Laser PFIB TEM
5109
Thermo Scientific™ Helios™ 5 Laser PFIB提供了****的能力,极端大体积3D分析,Ga-free样品制备,和精密微加工。具有创新的,完全集成的飞秒激光器,它提供*快的材料去除率和**的切割面质量,是毫米尺度范围纳米分辨率下*快的高质量亚表面和三维表征设备。
产品参数
飞秒激光PFIB
**体积:2000×2000×1000μm3
**束流:~1mA(等效于离子束电流)
切割束流:74μA
束斑尺寸:15μm
激光集成:3束(SEM/PFIB/激光)完全集成在样品室中,并具有相同的重合点,
实现精确、可重复的切割位置和三维表征。
一次谐波:波长1030 nm(红外),脉冲宽度<280 fs
二次谐波:波长515 nm(绿),脉冲宽度<300 fs
电子光学:
☆ 三束重合点 WD=4 mm(与SEM/FIB相同)
☆ 可变物镜(电动)
☆ 偏光:水平/垂直
☆ 重复率: 1 kHz~1 MHz
☆ 光束定位精度:<250 nm
保护挡板:自动SEM/PFIB保护挡板
软件:
☆ 激光控制软件
☆ 激光三维连续切片工作流程
☆ EBSD激光三维连续切片工作流程
☆ 激光编程控制脚本*
安全性:互锁式激光防护罩(1 类激光安全)
特点和用途
☆ *快的毫米级横截面材料去除,材料去除率比典型的Ga + FIB要快15,000倍
☆ 通过在更短的时间内采集更大的体积来实现统计学相关的表面下和三维数据分析
☆ 准确、可重复的切割位置,三束交于样品上同一点
☆ 通过提取表面下TEM薄片或块体进行三维分析来实现深层表面下特征快速表征
☆ 实现对不导电或对离子束敏感等具有挑战性的材料进行高吞吐量处理
☆ 实现对空气敏感样品的快速和简单表征,无需在不同仪器之间传送样品来进行成像和获取横截面
☆ Helios 5 PFIB平台的所有功能都非常可靠,包括**质量的无镓 TEM和APT样品制备以及极高分辨率成像能力
Scios 2 DualBeam
Helios 5 Laser PFIB TEM
Helios 5 DualBeam FIB
Apreo 2
Axia ChemiSEM
Prisma E SEM
Quattro-
F200C(S)TEM
CleanMill
Murano 525
Talos F200X S/TEM
F200S G2 200kV
场发射扫描电镜 SEM5000
Veritas
Quattro-
Pharos-STEM
INNO-SCAN 3D扫描仪
KYKY-EM8100
EM-30+
Transcend II
Hitachi FlexSEM 1000
略
美国Fauske 快速扫描绝热量热仪-ARSST
MIRA 3 GMU/GMH