高低温细丝炉体，硼扩磷扩工业炉主要用作半导体、功率器件、集成电路等行业中管式热壁产品的加热装置。可与美国TEMPRESS、美国TYAN、美国THERMCO、荷兰ASM、英国BTU、日本TEL等国外多种型号扩散炉配套（替代进口），采用的加工工艺，选用进口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的扩散工艺。
炉体为扩散炉提供热能源。高温细丝炉体低温，磷扩硼扩工业炉

详细介绍

高低温细丝炉体，硼扩磷扩工业炉主要用作半导体、功率器件、集成电路等行业中管式热壁产品的加热装置。可与美国TEMPRESS、美国TYAN、美国THERMCO、荷兰ASM、英国BTU、日本TEL等国外多种型号扩散炉配套（替代进口），采用guo外xian进的加工工艺，选用进口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的扩散工艺。
炉体为扩散炉提供热能源
       高温细丝炉体低温，磷扩硼扩工业炉扩散炉主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，即将元素磷、硼扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。
      同时还会在硅片表面生长一层二氧化硅膜，起到保护硅晶体的作用。而高温细丝炉体低温，磷扩硼扩工业炉炉体作为扩散炉温区控制核心部件，在炉体运行中起到至关重要的作用。

高低温细丝炉体，硼扩磷扩工业炉主要用作半导体、功率器件、集成电路等行业中管式热壁产品的加热装置。可与美国TEMPRESS、美国TYAN、美国THERMCO、荷兰ASM、英国BTU、日本TEL等国外多种型号扩散炉配套（替代进口），采用guo外xian进的加工工艺，选用进口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的扩散工艺。
炉体为扩散炉提供热能源
       高温细丝炉体低温，磷扩硼扩工业炉扩散炉主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，即将元素磷、硼扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。
      同时还会在硅片表面生长一层二氧化硅膜，起到保护硅晶体的作用。而高温细丝炉体低温，磷扩硼扩工业炉炉体作为扩散炉温区控制核心部件，在炉体运行中起到至关重要的作用。