粉体行业在线展览
光刻机 RPA-600
面议
容道社
光刻机 RPA-600
102
关键性能参数 | 公司产品 (RPA-600) |
分辨率 | 1.5μm |
数值孔径 | 0.158 |
曝光波长 | i线 (365nm) ,h线 (405nm) ,g线 (436nm) |
掩模版尺寸 | 5/6/7吋 |
wafer尺寸 | 4/5/6吋 |
产率 (Throughput) | 100WPH |
对准精度 | 3σ ≦ 0.6 μm |
焦深 (DOF) | 6-8μm |
光强均匀性 | <3% |
占地面积 | <4m2 |
TH-F120
BL-GHX-VK
A500
线性压电纳米位移台MF40-25A
InSight 软包电池透射X射线衍射仪
ParticleX TC
SuperSEM N10
SLS-LED-80B
Lyza 3000
在线浊度计
SCI300