脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统（NEW）

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产品介绍

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是*理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

1、脉冲激光沉积系统

产品特点：

◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体

◆ 可集成热蒸发源或溅射源

◆ 可旋转的耐氧化基片加热台

◆ 流量计或针阀精确控制气体流量

◆ 标准真空计

◆ 干泵与涡轮真空泵

◆ 可选配不锈钢快速进样室

◆ 可选配基片-靶材距离自动控制系统

◆ 可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。

2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）

产品特点◆ 超高真空不锈钢腔体

◆ 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

◆ 独立衬底加热，可旋转

◆ 多量程气体流量控制器

◆ 标准气压计

◆ 机械、分子、冷凝真空泵

可选不锈钢快速进样室

◆ 衬底和源距离可控

◆ 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

3、热化学气相沉积系统（TCVD）

产品特点

◆ 高温石英管反应器设计

◆ 温度范围：室温到1100℃

◆ 多路气体精确控制

◆ 标准气压计

◆ 易于操作

◆ 可配机械泵实现低压TCVD

◆ 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

◆ 液体前驱体喷头

◆ 2英寸超大**温度均匀区

4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）

产品特点：

◆ 水冷不锈钢超高真空腔

◆ 热丝易安装、更换

◆ 4个不同量程气体控制器

◆ 标准气压计

◆ 衬底与热丝距离可调节

◆ 2英寸衬底加热、可旋转

◆ **制备金刚石和石墨烯

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