晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统

ALD for surface passivation of c-Si solar cells

应用：

1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积

2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积

3.大规模生产的应用

4.工业全自动生产设备

5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)

特征：

1.良好的厚度＆均匀性好的Al2O3薄膜

2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积

3.具体化的ALD机械装置

4.全集成工艺模块

5.操作过程简单

6.自动式操作

技术规格：