半导体行业专用仪器-科研级磁控溅射设备—MS-700-合肥致真精密设备有限公司-产品详情

科研级磁控溅射设备—MS-700

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品牌：

致真精密

型号：

科研级磁控溅射设备—MS-700

关注度：

585

产品介绍

MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度的特点。可根据需求配置4inch以下的圆形阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产需要多靶溅射的中高精度的工艺需求。

性能参数

晶圆尺寸	4inch-6inch
镀膜均匀性	优于±2%
极限真空	优于5×10-10mbar（金属密封）优于5×10-9mbar（胶圈密封）
温控	RT-800℃，可选**1200℃
阴极数量	12个2inch 或 6个4inch，共焦溅射
电源	DC、RF、DC Pulse
沉积精度	0.1nm
占地面积	4m L3m W2.5m H
可选	低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、RGA、工艺菜单等

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科研级磁控溅射设备—MS-700

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