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Bhadra™立式

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拉普拉斯新能源科技股份有限公司

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品牌：

拉普拉斯

型号：

Bhadra™立式

关注度：

348

产品介绍

型号	Bhadra™立式LPCVD BHC200
功能	氮化硅/氧化硅/多晶硅（Poly-Si）/非晶硅（α-Si）薄膜沉积适用于功率半导体/衬底材料
重要参数	晶圆尺寸：8寸及以下晶圆载片量：125片/批 **加热温度：1050℃ 成膜种类：根据不同工艺要求工艺源可选配
装卸片方式	立式垂直升降垂直真空密封系统
优势	先进的压力控制技术五区高精度温度场控制先进的颗粒控制技术先进微环境氧含量控制稳定的传输控制能力

Bhadra™立式LPCVD BHC200

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