粉体行业在线展览
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拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
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拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
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设备的应用及特点：
应用
本设备适合156-210mm硅片生产，相比常规竖直插片具有更高的镀膜均匀性，能帮助客户提升高效太阳能电池的效率、集中性、和EL良率。本设备具有行业内**产能，能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。
热场
石英件
BHO200型超高温氧化炉
超高温退火炉
Bhadra™真空成型LVA400
Bhadra™立式
拉普拉斯电池间隙贴膜机
镀膜自动上下料设备
拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
拉普拉斯低压水平硼扩散设备 LRB430
拉普拉斯低压水平磷扩散设备 LRP430
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
NJ-80型
GPZT-JH10/4W
NVT-HG型 单晶生长炉
