RIE(Reactive Ion Etching)离子刻蚀机：系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗，工艺气体在电子区域形成等离子体，并产生电离气体和释放高能电子组成的气体，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，等离子体在工件表面发生反应，从而实现清洁、改性、刻蚀的目的，*后将污染物转换为气相，并通过真空泵用连续气体流将其排出。

主要特点

1、超低清洗温度，满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响；

2、旋转装置为行星旋转机构、具镀膜工艺不同，设计为：变频调速，公转式、公自转结合式。采用气动门铰，自动锁门，减少操作程序，增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性；

3、高真空度真空腔体设计及制造工艺，配置进口真空泵（分子泵），用户可据自己的需求，随时升级为多功能镀膜设备；

4、设备采用原装进口高压激励电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果；

5、放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体；

6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现逻辑全自动控制；

7、报警及保护：全面安全防护包括：温度安全防护功能、过载防护功能、短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。异常情况进行报警，并执行相应保护措施。

技术优势

1、物质的微结构表面会粘附各种各样的气体分子、微小颗粒、氧化物杂质等，统称为粘附物，这些粘附物属于微观粒子，宏观的清洗方式不能清除它们；

2、这些微观粘附物会对纳米级膜层产生诸多不利影响，影响膜层的结合力、清洁度、光泽、致密度等；

3、离子束刻蚀清洗源可以在真空条件下产生高能氩等离子体，轰击被镀工件表面；它不仅可以消除表面粘附物，还能“刻蚀”物质表面氧化物，从而得到“新鲜”物质表面，可以极大地提高薄膜的结合力，并提高膜层纯度；

4、离子束清洗工艺通常运行在膜层沉积之前。 清洗各种形状复杂的产品，包括内孔内壁、均匀清洗；

5、设计更紧凑合理、美观；离子束更稳定；工作功率范围更宽；清洗刻蚀效率更高；刻蚀均匀性更好；性能可靠，操作维修简单方便；产品系列更完整；

6、应用领域，可以为如下行业的镀膜提供表面清洗预处理：3C消费电子、半导体、光学、 交通工具、刀具模具、家电、新能源、医疗、**航天、科研等行业。