粉体行业在线展览
WG-1250自动减薄机
面议
中电科
WG-1250自动减薄机
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技术特点
●加工碳化硅晶锭(**厚度 3000mm)、带框架的异可加工碳化硅晶锭(**厚度 50000μm)、带框架的异形片及非标准的4/6/8寸SiC晶片;磨轮直径 Φ300mm,**减薄速率 0.9μm/s, 单片磨削时间< 5 分钟;
●双主轴三工位自动减薄机,在线测量方式(测量范围0-1800μm)/ 离线测量方式(测量范围 0-50000μm)可选;通过手动进行上片、卸片操作和油石手动清洗承片台。
性能指标
HP-1221全自动划片机
HP-1201自动划片机
HP-802自动划片机
HP-6103自动划片机
HP-6100自动划片机
JHQ-410系列激光划片机
HP-802C自动划片机
HP-6103/6100自动划片机
WP-301D晶片双面研磨机
WP-4300精密研磨机
WG-1230自动减薄机
WG-1261全自动减薄机
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037