粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

直接联系

北京泰科诺科技有限公司

北京

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

北京泰科诺

型号:

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

关注度:

219

产品介绍

设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号:HF450

真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷

真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm

真空系统:复合分子泵高真空系统

基片台尺寸:Φ100mm

衬底温度:600 ~ 1100℃

电源:专用热丝电源 400A, 恒流或恒功率模式

气路控制:4 路气体流量控制

控制方式:PLC 触摸屏控制

占地面积:主机 L1200mm×W1060mm×H1900mm

总功率:≥ 20kW


产品咨询

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450 - 219
北京泰科诺科技有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号