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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
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北京泰科诺科技有限公司
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北京泰科诺
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
881
设备名称：热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号：HF450
真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷
真空腔室尺寸：Φ450mmxH500mm
真空系统：复合分子泵高真空系统
基片台尺寸：Φ100mm
衬底温度：600 ～ 1100℃
电源：专用热丝电源 400A, 恒流或恒功率模式
气路控制：4 路气体流量控制
控制方式：PLC 触摸屏控制
占地面积：主机 L1200mm×W1060mm×H1900mm
总功率：≥ 20kW
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