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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
面议
北京泰科诺
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
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设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF450
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm
真空系统:复合分子泵高真空系统
基片台尺寸:Φ100mm
衬底温度:600 ~ 1100℃
电源:专用热丝电源 400A, 恒流或恒功率模式
气路控制:4 路气体流量控制
控制方式:PLC 触摸屏控制
占地面积:主机 L1200mm×W1060mm×H1900mm
总功率:≥ 20kW
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