粉体行业在线展览
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
面议
北京泰科诺
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
959
设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF450
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm
真空系统:复合分子泵高真空系统
基片台尺寸:Φ100mm
衬底温度:600 ~ 1100℃
电源:专用热丝电源 400A, 恒流或恒功率模式
气路控制:4 路气体流量控制
控制方式:PLC 触摸屏控制
占地面积:主机 L1200mm×W1060mm×H1900mm
总功率:≥ 20kW
纳米超硬膜涂层设备GDM1000
纳米超硬膜涂层设备GDM900
粉体镀膜设备JGCF1000
粉体镀膜设备JGCF800
粉体镀膜设备JGCF350
真空退火炉/钎焊炉VTHK550
高真空磁控溅射镀膜设备JCP500 高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
电阻蒸发镀膜设备ZHDS500
电阻蒸发镀膜设备ZHDS400
电阻蒸发镀膜设备ZHD600
电阻蒸发镀膜设备.
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037