粉体行业在线展览
CRF-VPO-12L-S
1-5万元
诚峰智造
CRF-VPO-12L-S
1200
名称(Name)
真空式等离子处理系统
型号(Model)
CRF-VPO-12L-S
控制系统(Control system)
PLC+触摸屏
电源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz, 7kw
中频电源功率(RF Power)
1000W/40KHz/13.56MHz
容量(Volume )
180L(Option)
层数(Electrode of plies )
14(Option)
有效处理面积(Area)
490(L)*356(W)
气体通道(Gas)
两路工作气体可选:Ar、N2、CF4、O2
外形(Appearance )
钣金结构
产品特点
超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
应用范围
真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、等离子硅胶处理、塑胶处理、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域:硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、等离子刻蚀、活化。
在现今等离子清洗机是如何解决温度这个问题的呢?
依据等离子体中的重粒子温度,可以把等离子体分为两大类,热等离子体和冷等离子体。以3×103K-3×104K,基本达到了热力学平衡,具有统一的热力学平衡温度,可通过麦克斯韦的热力学平衡态速度分布,波尔兹曼粒子能量分布,沙哈方程等方法确定等离子体状态和参数。热等离子体能量密度高,主要用于材料合成、球化、致密性和涂层保护。
在低温等离子体中,重粒子的温度只有室温,而电子温度可以达到成千上万度,因此远离热力学平衡状态,例如辉光放电属于低温等离子体。冷等离子主要用于等离子蚀刻、沉积和等离子表面装饰。电洗涤温度是许多用户关心的问题,电洗涤时,电洗涤火焰看起来也和一般的火焰差不多,而电洗涤设备如采用中频电源,功率大,能量猛,不加水冷温度也很高,若洗涤材料不耐温,则需注意温度。
电浆清洗机的电源常用的是13.56KHz射频电源,它产生的等离子密度高,能量柔软,温度低,一般功率为1~2KW,大功率为5KW,小功率为数百W,多功率为40KHz,中频功率为40KHz,与射频电源相反,电浆密度不高,但功率大,能量高,大功率为几十KW。真空等离子体清洁器放电射频清洁器的温度与平时室内气温也差不多,当然如果整天都在使用真空等离子体清洁器,还是需要加水冷却系统。
电浆喷射的平均温度介于200至250摄氏度。如果能够正确设定距离和速度,表面温度可以达到70-80℃。本工艺适用于各种标准品(金属、陶瓷、玻璃、塑料、弹性体等)的清洗,一般采用喷射式等离子体清洗装置,也可应用于流水线上的等离子体清洗装置,由于流水线的不断运转,材料在喷嘴下停留时间较长。由于氮气能降低等离子体温度,有些喷射等离子体清洗也能使用氮。电晕放电需要注意的是,等离子体清洗机中还有一种产品叫做电晕,其实电晕也是等离子体清洗机的一种分类。电晕机的洗涤温度一般较高,电晕机与喷射等离子体的洗涤温度相似,有时遇到不耐高温的材料,也会用氮清洗。
事实上,没有必要太担心温度问题。目前的等离子清洗机可以很好地调节温度,使材料清洗达到理想的效果(效果)。
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CRF-APO-RP1020-D
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