粉体行业在线展览
金属污染物M-SPEC系列
面议
芯晖装备
金属污染物M-SPEC系列
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金属污染物M-SPEC系列
Full Automatic in Line System
Detection Limit: ~1ppt
Time to data: 30min ~ 1hrs
Detector: ICP-MS
Throughput: 3-6 per hour
自主研制的晶体生长、研磨抛光、光学量测、化学检测、芯片测试等设备, 已广泛运用于半导体集成电路制造的前、中、后道。
晶圆铜雾离子检查设备-HD
晶圆表面及边缘检测设备-SEDI
晶圆边缘检测设备-EDI
XV1152 测试平台
晶圆隐裂外观检测设备(ADS)
XB1152 测试平台
晶圆隐裂外观边缘检测设备-ADSE
金属污染物M-SPEC系列
离子污染物I-SPEC系列
有机污染物O-SPEC系列
200mm硅片研磨设备
300mm硅片研磨设备
电脑组合体系VG42
UNI800C多物料配料控制仪
在线HPXRF检测设备
PicoFemto扫描电镜原位液体-电化学测量系统
金属称重检测一体机
在体皮肤拉曼分析仪
BSD-PB(气液法)
佐竹搅拌扭矩测试仪
μBenchCAT 反应评价装置系列
HTR
0~10%糖度