红外光学温度计是一种测量光并通过校准以指示温度的设备。红外光学温度计检测来自热物体的辐射通量，并利用一种算法来计算物体的表面温度。所用的算法是基于普朗克黑体辐射方程。

红外光学温度计通过测量物体辐射的红外能量来计算物体的表面温度。半导体行业的红外温度计主要应用于晶体生长阶段，分为Si探测器、铟镓砷探测器以及热电堆探测器三种。从测温原理上分为比色和单色，从光通形式分为透镜型及光导型。

和其光电HQ-RTS系列红外温度计可应用于长品炉、刻蚀机、MOCVD、HPDCVD、PECVD、RTP等半导体设备，具有高精确度、高重复性、高可靠性、可定制、技术支持快速响应等诸多优势。

HQ-RTS-L系列在控制晶圆之间温度和薄膜厚度的均匀性方面具有更高优势。 

HQ-RTS-L红外温度计采用高度敏感的电子器件及光学系统，可以使用更短波长的探测器来测量辐射能，减少了晶圆透射及发射率造成的误差。