粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>低压化学气相沉积系统(LPCVD)

上海载德半导体技术有限公司
产品
低压化学气相沉积系统(LPCVD)

直接联系

上海载德半导体技术有限公司

韩国

产品规格型号
参考报价：

面议

关注度：

748

产品介绍

扩散炉、低压化学气相沉积设备(LPCVD)

产地：韩国；

有单管和双管两个不同的型号，用于科研或者小规模生产。

性能和特点：

- 温度范围：500 ~ 1000摄氏度；

- 气体混合能力(带有质量流量计)；

- 真空范围：~ 10-6 Torr；

典型应用：

- 无应力氮化硅；

- LPCVD；

- 退火；

- 氧化；

- 其他...

获取更多信息，请访上海载德半导体技术有限公司 网站

产品咨询

低压化学气相沉积系统(LPCVD)

上海载德半导体技术有限公司

请填写您的姓名：*

请填写您的电话：*

请填写您的邮箱：*

请填写您的单位/公司名称：*

请提出您的问题：*

您需要的服务：

发送

中国粉体网保护您的隐私权：请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站，表明您接受 我们的使用条款

低压化学气相沉积系统(LPCVD) - 748
上海载德半导体技术有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号