粉体行业在线展览
第三代半导体外延设备
面议
新益昌海威
第三代半导体外延设备
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第三代半导体外延设备
机型:QDE系列
外延设单腔/多片(**3×8Inch)+洁净真空机械手搬运, •各盘独立控温,控温精度高; •水平层流布气+分子泵排气,控制气体分布均匀; •工艺进程实时监控,精准控制参数;
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自动划片机
FM-W-PDS
Gasboard-2060
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定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037