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TALD-D 双腔热型原子层沉积系统

TALD-D 双腔热型原子层沉积系统

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参考报价：

面议

品牌：

嘉兴科民

型号：

TALD-D 双腔热型原子层沉积系统

关注度：

9

产品介绍

ALD系列原子层沉积系统是专门为先进半导体工艺开发的薄膜沉积系统，已在国内高校和科研院所装机超百台。以优良的品质，极高的可靠性，超长的使用寿命受到客户的认可，产品性能和售后服务得到用户一致好评。

获取更多信息，请访嘉兴科民电子设备技术有限公司网站

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TALD-D 双腔热型原子层沉积系统

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