粉体行业在线展览
水平LPCVD气相沉积
面议
华旗科技
水平LPCVD气相沉积
442
配套工艺:
多晶硅P-Si,氮化硅Si3N4,氧化硅SiO2
磷硅玻璃PSG,硼磷硅玻璃BPSG
TEOS,LTO,HTO,SIPOS...
XRD-晶向定位
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等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
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