粉体行业在线展览
LD-200A紧凑型原子层沉积设备
面议
泽鸿半导体
LD-200A紧凑型原子层沉积设备
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紧凑型原子层沉积设备,用于基板表面沉积各种薄膜(氧化铝,氧化硅等),满足2-8inch 科研、生产工艺需求。
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