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高真空多靶镀膜系统 JCPY500
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高真空多靶镀膜系统 JCPY500
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高真空多靶镀膜系统 JCPY500 真空溅射腔室：Ф500×H500mm； 溅射室：8.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）； 工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从上向下溅射镀膜； 脉冲偏压：-1000V，1套；
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