粉体行业在线展览
湿法刻蚀设备
面议
盛美半导体
湿法刻蚀设备
779
智能工序功能 - 对于不同的金属腐蚀工艺,如铜刻蚀后再进行钛刻蚀,可预设工艺菜单与工序后,在设备中一次完成。
先进的喷嘴扫描系统
精确的药液控制
药液回收使用可减少成本
专注安全性
兼容8寸和12寸晶圆
*多可配至4个单片腔体
*多可配至5种药液进行双面清洗工艺
*多可回收2种药液
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
NJ-80型
GPZT-JH10/4W
NVT-HG型 单晶生长炉