粉体行业在线展览
/KT-Z1650CVD
1-5万元
郑州科探仪器设备有限公司
/KT-Z1650CVD
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KT-Z1650CVD 是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪,仪器虽小功能齐全。配备7寸触摸屏人工界面,具有电流时间工艺储存功能。配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及自动电动 样品挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率,可对大部分金 属(金,银,铜,铬,镍等)和有机物进行均匀蒸发沉积。真空腔 室透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
技术参数
控制方式 | 7寸人机界面手动 自动模式切换控制//晶控模式(需配膜厚仪) |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
**功率 | ≤1200W |
输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟)分子泵≤5*10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 透明玻璃腔体中160mm ×170mm |
样品台 | 可旋转中75(可安装中60基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-70mm |
蒸发温度调节 | ≤1800°C |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 陶瓷坩埚 石英石坩埚 |
预留真空接口 | Kf25抽气口 KF16真空计接口 放气口 |
真空测量 | 电阻真空计(已安装测量范围10E5Pa 1E-1Pa) |
可选配扩展 | 1:机械真空泵抽速8mYh(≤5Pa(5分钟) 2:分子泵机组(可抽真空20分钟≤5*10^-3Pa) 3:膜厚仪:(厚度范围0-9999A,厚度显示分辨率1A 速率范围0-999.9A,速率显示分辨率 0.1A,晶振频率5-6MHz) |
标配 | 1台小型蒸镀仪KT-Z1650CVD主机,电源线、合格证、说明书、保修卡各一个 |
室温~400°C/-190~400°C
2款
Z8090RL
KT-1ZF(单工位) /KT-2ZF(双工位) /KT-3ZF(三工位)
KT-Z5KQX
KT-150YCF
KT-Z1604T-R 室温~400°C KT-Z1604T-RL-190~400°C
1650PVD
KT-C2ZS(两通道) /KT-C3ZS(三通道) /KT-C4ZS(四通道)
KT-RHC1Z
KT-Z85-R 室温~400°CKT-Z85-RL-190~400°C
KT-Z10002R
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
ESC‑500
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
自动划片机