粉体行业在线展览
面议
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gL2000种类
1)gL2000-L
2)gL2000-M
3)gL2000-H
gL2000材料特性
1)高速、高分辨率
2)可调制显影加工
3)高分辨率显影
4)高耐干蚀刻(优于PMMA)
gL2000相关溶液
1)显影液:gL Developer(标准显影液)
gL Developer HR(高分辨率显影液)
2)清洗剂:gL Rinse
3)去胶剂:gL Remover
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037