粉体行业在线展览
UP-206金属圆柱腔式MPCVD设备
面议
优普莱
UP-206金属圆柱腔式MPCVD设备
675
UP-206系列金属圆柱腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置采用业内知名高可靠性品牌,保障设备长时间稳定运行。软件系统采用高度集成的PLC控制,所有操作均可在触摸屏上一键完成。工艺配方功能强大,可支持多达10套不同工艺自动生长。内置恒温功能,开启后设备全自动监控调节,省时省力。非常适于沉积单晶金刚石片,人工钻石毛胚等,已实现给各企业及研究院所大批量出货。
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
等离子化学气相沉积系统-PECVD
HSE系列等离子刻蚀机