半导体行业专用仪器-TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备-碳方程半导体设备制造（山西）有限公司-产品详情

TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备

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碳方程半导体设备制造（山西）有限公司

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品牌：

碳方程

型号：

TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备

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293

产品介绍

TFC-6650C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是***的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。

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