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TFC-10800C化学气相沉积（MPCVD）设备

TFC-10800C

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碳方程半导体设备制造（山西）有限公司

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品牌：

碳方程

型号：

TFC-10800C

关注度：

743

产品介绍

特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。

获取更多信息，请访碳方程半导体设备制造（山西）有限公司网站

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