粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>TFC-10800C化学气相沉积（MPCVD）设备

产品
TFC-10800C化学气相沉积（MPCVD）设备

TFC-10800C

直接联系

碳方程半导体设备制造（山西）有限公司

山西

产品规格型号
参考报价：

面议

品牌：

碳方程

型号：

TFC-10800C

关注度：

411

产品介绍

特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。image.png

获取更多信息，请访碳方程半导体设备制造（山西）有限公司 网站

产品咨询

TFC-10800C化学气相沉积（MPCVD）设备

TFC-10800C

请填写您的姓名：*

请填写您的电话：*

请填写您的邮箱：*

请填写您的单位/公司名称：*

请提出您的问题：*

您需要的服务：

发送

中国粉体网保护您的隐私权：请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站，表明您接受 我们的使用条款

TFC-10800C化学气相沉积（MPCVD）设备 - 411
碳方程半导体设备制造（山西）有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号