粉体行业在线展览
电子束光刻机
面议
安徽泽攸
电子束光刻机
2629
泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)采用场发射电子枪,配合一体化的高速图形发生系统实现对半导体晶圆的高速、高分辨光刻。该系统标配高精度激光干涉样品台,允许用户实现大行程高精度拼接和套刻需求,在新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域发挥重要作用。
产品特色
▲ 激光干涉样品台:先进的激光干涉样品台,满足大行程高精度拼接和套刻需求
▲ 场发射电子枪:高分辨场发射电子枪是光刻质量的重要保证
▲ 图形发生器:在保证超高速扫描的同时实现超高分辨率图案绘制
样品台指标
应用案例

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无掩膜光刻机
手动台阶仪 JS10C
ZEM20台式扫描电镜
电子束光刻机
ZS100A/200A/300A
全自动台阶仪JS2000C/3000C
SEM电池台
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透射电子显微镜样品杆预抽存储系统
SEM纳米探针台.
SEM冷冻真空传输系统
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CVD 真空化学气相沉积设备
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