粉体行业在线展览
定制-离子束溅射沉积系统
面议
毅睿/芯壹方
定制-离子束溅射沉积系统
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离子束溅射沉积系统
Description:
●低压溅镀沉积(10-4Torr)
●高质量、平滑、无针孔无针孔薄膜
●可实现<+/-3%的均匀沉积
●增强的附着力和微观结构控制
●**的覆盖效果高宽比特征
●独立控制离子束参数,使用户能够设计薄膜以获得所需的特性
●低能量离子辅助端霍尔离子源
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机