粉体行业在线展览
晶圆环切设备
面议
晶圆环切设备
680
设备特点
通过图像算法和先进控制技术来实现晶圆圆周微米级的修 整,是先进集成电路制造前道工序、先进封装3D-IC等环节必需的关键制程工艺
高集成性,高传输效率,高单位面积产能
配置高洁净清洗模组,应对更先进工艺制程
6/8/12寸模式切换便捷快速,兼容多种工艺需求
可选配ETMU进行修边前值后值测量
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll