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桌面式磁控溅射设备—MS-200
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合肥致真精密设备有限公司
安徽
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致真精密
桌面式磁控溅射设备—MS-200
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MS-200磁控溅射设备是一款小型台面式溅射系统，具有高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配1个2英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求。
晶圆尺寸 | 4inch向下兼容 |
镀膜均匀性 | 优于±2% |
极限真空 | 1×10-8mbar |
温控 | RT-800℃ |
阴极数量 | 3个2inch靶头共焦溅射 |
观察窗挡板
倾斜式高温样品台
蒸发源
圆形互联设备（外置机械臂、内置机械臂）
两个镀膜系统直接互联设备
超高真空管道传输设备
晶圆真空传输平台—VTM
量产型磁控溅射设备—MSI-200
生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV
生产型磁控溅射设备—MSI-100-HV
量产级多功能薄膜沉积设备
分子束外延设备—MBE-400
