粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备

TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备

TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备

直接联系

碳方程新材料(山西)有限公司

山西

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

碳方程

型号:

TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备

关注度:

406

产品介绍

TFC-10800D,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是***的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体(MPCVD)综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。

产品咨询

TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备

TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

TFC-10800D微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备 - 406
碳方程新材料(山西)有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号