粉体行业在线展览
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HVPE气相外延
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青岛华旗科技有限公司
山东
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华旗科技
HVPE气相外延
504
产品性能：
*工作温度：200～1200℃/2200℃
*结构方式：水平/垂直，片数：1/3/6/多片（科研/生产型）
*多温区，动态高精度生长条件控制
*低压、常压、微正压工艺方式，衬底片升降、旋转（厚膜/晶体生长）
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机
