粉体行业在线展览
卧式LPCVD
面议
电子科技
卧式LPCVD
133
应用于宽禁带半导体器件、电力电子器件、光电子等行业氮化硅、多晶硅或氧化硅薄膜的制备;适用工艺有LPCVD。
温度控制采用串级控制方式,对基片实际温度进行实时智能控制;
装载采用SiC悬臂桨,避免了与工艺管摩擦产生粉尘。
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机