粉体行业在线展览
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NV-150型MBE系统
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中国电子科技集团公司第四十八研究所
湖南
面议
电子科技
NV-150型MBE系统
179
生长室
· 极限真空5E-11Torr
· 6英寸或3×3英寸衬底
· 12个源炉口
· 可选E-gun系统
· 衬底**加热至1000°C
· 多种束源炉挡板可选
缓冲室
·极限真空SE-10Torr
·可选集成式高温除气台
·可选独立预处理室
·易于扩展、多腔互联
·线性手动／自动传输
进样室
· 快开门设计
· 可装载7片晶圆
· 红外灯管加热
· 晶圆升降电动控制
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机
