粉体行业在线展览
M82 730 6K
面议
顺心谷
M82 730 6K
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技术参数
项目 | 数据 |
设备型号 | M82 730 6K |
操作系统 | SXG-MPCVD控制系统 |
微波频率 | 2450MHz,输出功率:6KW |
反应腔 | 承载功率≦10KW |
生长台 | Φ2英寸 |
工作压力 | 10-200Torr |
标准气路 | 5路/6路(可定制) |
测温系统 | 红外测温,测温范围300~1400℃ |
系统真空密封性(氦质谱捡漏) | <1×10-9 Torr.l/sec |
真空泵 | 17.1 m3/H |
设备尺寸 | 主机:1500MM(长)*700MM(深)*1880MM(高) 电控柜:545MM(长)*765MM(深)*1740MM(高) |
设备重量 | 主机:375KG;电控柜:185KG |
公司位于上海青浦区,具备一流的洁净生产车间和生产测试设备。我们有深厚的技术积累,核心团队由德国归国博士主导,研发团队由业内尖端技术人员组成,与国内外多所大学及研发机构建立了长期战略合作关系;我公司研发团队与德国FM集团联合攻关,以项目分工合作方式,在微波输出功率不同(6KW及10KW)的情景下,以高科技的数字化手段模拟微波场的不同分布,实现定制适配器与真空腔体**结构的**结合,使得我们的新一代MPCVD设备性能更加优异;经过持续的技术研发,我们已在MPCVD行业技术领域具备一定知名度。我们立志**国内MPCVD行业,为所有合作方提供全方位的智能解决方案,并提供全面、专业的售后服务支持。
公司坚持“设备+工艺”的双优发展方针,以设备优化工艺,以工艺反驱设备,形成产业链的闭环发展和双向优化。
目前已研发出微波等离子化学气相沉积系统,用于生产高等级和高纯净度的单晶合成金刚石;产品应用行业还可以跨越航空航天、半导体器件、光学、散热器件、量子计算机、珠宝首饰等各个领域;我公司同时也从事微波等离子体技术的应用和开发,并致力于微波等离子体技术的成果转化和产业化。
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037