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管式化学气相沉积设备

管式化学气相沉积设备 100/CVD200

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研博智创

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管式化学气相沉积设备 100/CVD200

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管式化学气相沉积设备 100/CVD200 镀膜方式：化学气相沉积；真空腔室结构：高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢；真空腔室尺寸：Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm；基片台尺寸： 2英寸 / 定制生长车（分层）；一、产品特点：该设备是利用高温化学气相沉积技术，石英管生长室清洁无污染；多路气体控制合理；PID加热温度高控温。高真空环境，兼具真空退火炉功能。二、主要用途：可制备用于光电子、石墨烯、微波器件等高纯薄膜。三、适用范围：适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。四、技术参数：

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