粉体行业在线展览
Top-device研发机
面议
普诺逊
Top-device研发机
833
Top-device研发机
基板尺寸50x50玻璃基底(8片每次)
应用领域
顶发射OLED器件研发
点源配置
有机源12支,金属源2支
腔内布局单体机(金属&有机源分隔
是否有LL否
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll