粉体行业在线展览
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ALD薄膜沉积
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普诺逊真空科技（苏州）有限公司
江苏
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普诺逊
ALD薄膜沉积
877
ALD薄膜沉积
规格&简介
基底尺寸
6” wafer
应用领域
AI203，Hf02，Zro2.
VOx、TiO2,
MoOx.
SiO2，AIN，SixNy等
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll
