粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>PECVD 设备 卧式

PECVD 设备 卧式

PECVD 设备 卧式

直接联系

山东力冠微电子装备有限公司

山东

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

山东力冠

型号:

PECVD 设备 卧式

关注度:

434

产品介绍

产品概述/Product Introduction:

♦ PECVD主要应用于氧化硅(SiO₂) 和氮化硅(SiN4) 材料的薄膜生长,工作原理是在低压引入高频射频电源,采取电容耦合方式使工艺气体电离放电,形成等离子体状态,产生大量的活性基团,这些活性基团在衬底材料表面发生化学反应并沉积到衬底表面,生长出氧化硅(SiO₂) 或氮化硅(SiN4) 薄膜

PECVD is mainly used for thin film growth of silicon oxide (SiO₂) and silicon nitride (SiN4) materials, The working principle is to introduce a high-frequency RF power supply at low voltage, ionize and discharge the process gas by capacitive coupling, and form a plasma state, which produces a large number of active groups. These active groups react chemically on the surface of the substrate material and depos- it on the bottom surface of the village, and grow silicon oxide (SiO₂) or silicon nitride (SiN4) thin films.

 

产品特点/Product Characteristics:

♦ 成膜质量高

High film quality

♦ 体积小占地面积小,操作简便

Small volume, small floor area and simple operation

♦ 具有良好的工艺性能,使用范围广泛

Has good process performance and wide application range


产品咨询

PECVD 设备 卧式

PECVD 设备 卧式

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

PECVD 设备 卧式 - 434
山东力冠微电子装备有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号