粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
水平离子溅射镀膜设备
直接联系
杰莱特（苏州）精密仪器有限公司
江苏
面议
杰莱特
水平离子溅射镀膜设备
433
工艺参数：
一，真空系统
1、极限真空度：4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用时间：≦ 10 分钟
3、漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec
二，控制精度
1、靶材旋转：0.005°
2、工件旋转:<1000RPM
3、编码器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板：0.005°
5、挡板: position switch
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机
