粉体行业在线展览
离子镀膜设备
面议
杰莱特
离子镀膜设备
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型号:IBSV-1030 特点:a)基板垂直放置,水平监控;b)转靶左右可调,保证靶面中心和离子源**距离;c)基板:12吋×1 ;d)靶材:两靶或三靶可更换;e)多光路监控。f)工件夹具:12吋工艺参数:1)真空系统a)极限真空度:4.0×10-5Pa b)抽至10Pa所用时间 10 Pa:≦ 10 分钟c)漏率:3.0×10-5Pa m3/s 2)控制精度a)靶材旋转:0.005°b)工件旋转: <1000RPMc)编码器Encode: 12000lines;480000Counts/revd)膜厚修正板:0.005°e)挡板: position switch3)光学监控系统OMSa) 波长范围:380nm~1650nmb) 光源稳定性 :白光< 0.1%,激光< 0.02%c) 波长分辨率: 白光0.2nm,激光0.1nmd) 波长准确度: 白光0.2nm ,激光0.1nm