粉体行业在线展览
ALD-HS 高速原子层沉积系统
面议
嘉兴科民
ALD-HS 高速原子层沉积系统
16
ALD-HS系列原子层沉积系统是专为在线连续生产开发的高速时间型原子层沉积系统,适用于从200mm到2400mm的各种规格玻璃基板和硅片,通过在线传输系统上下料,大尺寸基板节拍可达30s。在高生产节拍的基础上,保留时间型原子层沉积系统的所有优点(高薄膜质量、高致密性)
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自动划片机
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037