该设备为微波等离子化学气相沉积系统（MWCVD）。采用2.45GHz频率微波源，激发稳定的等离子体。电场激发模式为TM021模式，该系统可以稳定生长金刚石单晶材料、多晶晶圆。通过工艺调节，可以稳定生长出 2 英寸到3英寸的金刚石晶圆薄膜。

       主要应用领域：半导体衬底、热沉片、珠宝、刀具、机械密封、新一代移动通信、智能电网、消费类电子等。

该设备为微波等离子化学气相沉积系统（MWCVD）。采用2.45GHz频率微波源，激发稳定的等离子体。电场激发模式为TM021模式，该系统可以稳定生长金刚石单晶材料、多晶晶圆。通过工艺调节，可以稳定生长出 2 英寸到3英寸的金刚石晶圆薄膜。

       主要应用领域：半导体衬底、热沉片、珠宝、刀具、机械密封、新一代移动通信、智能电网、消费类电子等。