粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>碳膜溅射设备 CS-200

碳膜溅射设备 CS-200

碳膜溅射设备 CS-200

直接联系

天津市万德思诺国际贸易有限公司

天津

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

万德思诺

型号:

碳膜溅射设备 CS-200

关注度:

100

产品介绍

产品图片:

产品型号:

CS-200

产品介绍:

Dense carbon film for high temp. anneal

Max. Substrate φ200㎜(Transfer tray available)

 

产品特点:


    • 1. Key point for carbon process
      - Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processes are well known.

  •  

    • 2. Good process experience for CC deposition
      - AIST and SIC production company uses ULVAC system.

  •  

    •  3. Optional items
      - High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.

 


产品咨询

碳膜溅射设备 CS-200

碳膜溅射设备 CS-200

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

碳膜溅射设备 CS-200 - 100
天津市万德思诺国际贸易有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号